（ブルームバーグ）：27日のアムステルダム株式市場で、オランダの半導体製造装置大手ASMLホールディングが9%余り下落した。中国の政府系企業が液浸型深紫外線（DUV）露光装置の製造を開始したとする報道を受けて、売りが出た。

ASML株は報道前の時点で、一時1.9%上昇していた。欧州市場ではASMインターナショナルやBEセミコンダクターなど、他の半導体製造装置メーカーの株価も大きく下げた。

ASMLの担当者はコメントを控えた。

米市場ではアプライド・マテリアルズが一時8%近く下げたほか、KLAが7%余り下落した。DUV露光装置はASMLのほか、ニコンやキヤノンが主な供給元となっている。

テクノロジーニュースサイトのジ・インフォメーションは関係者2人の話として、中国の政府系企業が液浸型DUV露光装置の製造を開始したと報じた。液浸型DUV装置は半導体メーカーが製造工程で使用する重要な装置の一つである。

関係者がジ・インフォメーションに語ったところによると、この企業は別の政府系スタートアップである上海宇量昇科技などの液浸型DUV装置開発チームを結集した。

報道によると、このDUV装置が中国メーカーで採用され、大量生産に用いられれば、オランダ大手、ASMLホールディングの製品に取って代わることが可能になる。

上海に本社を置くこの企業は、今年約5台のDUV装置を製造し、2027年には約20台を製造する計画だ。

これらのDUV装置は今年、中芯国際集成電路製造（SMIC）や華虹宏力半導体のほか、メモリー大手の長鑫存儲技術（CXMT）など中国国内の半導体メーカーに納入される。

ジ・インフォメーションによると、上海宇量昇科技とSMIC、華虹宏力半導体、およびCXMTはコメント要請に応じなかった。

半導体サプライチェーンのこの分野で、ASMLが築いてきた独占的な地位が脅かされる可能性や、米国の輸出規制にもかかわらず中国が半導体生産で前進している兆候に、投資家は敏感になっている。

ASMLは米国主導の輸出規制の一環として、最先端製品であるEUV（極端紫外線）露光装置の中国輸出を禁止されている。最先端のDUV露光装置も、中国への販売が制限されている。同社の4－6月（第2四半期）業績では、中国が3位の市場だったが、同国向けに出荷される装置は最先端モデルより8世代前のものだ。

英紙フィナンシャル・タイムズが昨年報じたところによると、中国のSMICは上海宇量昇科技が製造したDUV露光装置の試験を開始した。

原題：ASML Falls on Report That China Starts Immersion DUV Output (2)（抜粋）

原題：ASML Slides on Report of China Starting DUV Tool Production (1)（抜粋）

(株価を更新し、情報とチャートを追加します)

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