高円宮妃久子さまは、最先端の技術開発で優れた研究成果をあげた若手技術者を表彰する式典に出席し、受賞者と懇談されました。

きょう午前11時ごろ、久子さまは東京・港区の明治記念館で行われた「第37回独創性を拓く先端技術大賞授賞式」に出席されました。

式典ではデータ保存時にメモリの消費電力を抑えるための材料を研究し、文部科学大臣賞を受賞した高田真悟さんら受賞者あわせて4人と4つの団体が表彰され、久子さまは拍手を送られていました。

表彰後、久子さまは「日本においての研究開発レベルは常に高い水準を維持しており、世界的に評価されていることをとても喜ばしいと思っております」と述べられました。

このあと、久子さまは受賞者と懇談し、各自の研究内容をまとめたパネルを見ながら説明を聞き、「（研究が）どういうふうに広がっていくか楽しみですね」などと、にこやかに感想を話されていました。